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【GB/T 47927-2026】半导体芯片化学机械抛光垫修整用金刚石盘
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即将正式实施提醒

该标准将于 2027-02-01 起正式施行,距离生效尚有 122 天。建议相关企业及实验室尽早开展标准宣贯与合规调整。

即将实施 国家标准 机械工业与装备制造

GB/T 47927-2026

半导体芯片化学机械抛光垫修整用金刚石盘
Diamond discs for dressing the chemical mechanical polishing (CMP) pad of semiconductor chips
🔬 标准体检与查新报告
正式发布日期
2026-07-30
正式实施日期
2027-02-01
中国标准分类号 (CCS)
J 43
国际标准分类号 (ICS)
25.100.7025

📑 标准核心属性与编制信息

主管部门 / 发布部门 中国机械工业联合会
归口技术委员会 全国磨料磨具标准化技术委员会
主要起草单位 江苏三晶半导体材料有限公司、北京安泰钢研超硬材料制品有限责任公司、郑州磨料磨具磨削研究所有限公司、北京科技大学、武汉市汇达材料科技有限公司、郑州三磨超硬材料有限公司、江苏锋菱超硬工具有限公司。
主要起草人员 邹余耀、张富纬、高巍、包华、李成明、孙文文、刘天立、庄政伟、徐永江、罗晓丽、刘一波、张良、王磊、苗苗。
国际标准采标情况 自主编制,未等同采用国际标准
最后同步校验时间 2026-10-01

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⏳ 标准代际更迭与生命周期时间轴

自立项制定发布以来的历次版本替代演进历史链条

共 1 个代际版本
GB/T 47927-2026 即将实施
● 现行有效版本 (当前页面)
半导体芯片化学机械抛光垫修整用金刚石盘
正式发布:2026-07-30 实施施行:2027-02-01

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